[发明专利]POSS改性丙烯酸酯树脂及其高阻抗黑色矩阵光刻胶组合物在审
| 申请号： | 202110289849.5 | 申请日： | 2021-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN113150223A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 聂俊;张硕;戚金鑫;章宇轩 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学常州先进材料研究院 |
| 主分类号： | C08F283/12 | 分类号： | C08F283/12;C08F220/06;C08F220/18;C08F220/20;G03F7/004;G03F7/027;G03F7/075 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 213164 江苏省常州市武进区常武中路18号*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一类黑色矩阵光刻胶用笼型倍半硅氧烷(POSS)改性的丙烯酸酯树脂，包括四个共聚单体，分别为含羧基单体、含羟基单体、辅助单体及单官能团POSS。同时，本发明还公开了POSS改性的丙烯酸酯树脂的制备方法及其应用。本发明将POSS改性的丙烯酸酯树脂应用于黑色矩阵光刻胶中。制得该产品阻抗性能明显得到提高，还具有良好的遮盖力以及附着力、耐化学腐蚀性、高硬度，在光刻胶领域具有很好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | poss 改性 丙烯酸酯 树脂 及其 阻抗 黑色 矩阵 光刻 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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