[发明专利]一种氮化镓位错双光子超分辨显微三维成像装置及方法有效
申请号: | 202110291166.3 | 申请日: | 2021-03-18 |
公开(公告)号: | CN113075177B | 公开(公告)日: | 2022-02-11 |
发明(设计)人: | 施可彬;杨文凯;王新强;杨宏;龚旗煌 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64 |
代理公司: | 北京万象新悦知识产权代理有限公司 11360 | 代理人: | 王岩 |
地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种氮化镓位错双光子超分辨显微三维成像装置及方法。本发明利用光学手段对氮化镓位错进行三维成像,是一种非接触式成像,不会对样品造成破坏,不涉及昂贵的扫描电镜等设备,也不需要对样品进行预处理,单次成像区域面积大,同时该设备成像分辨率较高,成像速度快;激发光源为光纤激光器,其成本较低,结构简单,稳定性强,易于维护,对氮化镓晶体激发效率高,荧光信号易于探测,检测模块可以灵活配置;结合氮化镓位错的荧光特性,提出利用涡旋光束作为激发光,能够获得超过衍射极限的横向空间分辨能力。 | ||
搜索关键词: | 一种 氮化 镓位错双 光子 分辨 显微 三维 成像 装置 方法 | ||
【主权项】:
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