[发明专利]光学装置及包含该装置的光刻系统及其曝光方法在审
| 申请号： | 202110293836.5 | 申请日： | 2021-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN113050387A | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 上海度宁科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海大邦律师事务所 31252 | 代理人： | 陈丹枫 |
| 地址： | 200000 上海市浦东新区自*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学装置及包含该装置的光刻系统及其曝光方法，所述光学装置包括空间光调制器，所述空间光调制器对光源照明面不同区域的光进行空间调制并反射为具有第一图形的光；还包括至少一光学模组，所述光学模组用于将空间光调制器反射的具有第一图形的光分割、空间反射和平移，并在最终像面投影出具有一定组合关系的曝光图形。本发明增大了曝光过程中与曝光扫描方向相垂直方向的曝光图形长度，提高了空间光调制器的有效利用率，进而提高了整个光学装置的曝光效率，使得与空间光调制器配合使用的系统的使用费用进一步降低。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 装置 包含 光刻 系统 及其 曝光 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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