[发明专利]光场显示度量在审
| 申请号： | 202110294241.1 | 申请日： | 2016-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN113358045A | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | S·A·米勒;L·E·埃德温;I·L·约 | 申请（专利权）人： | 奇跃公司 |
| 主分类号： | G01B11/14 | 分类号： | G01B11/14;G01B11/22;G01J3/50;G02B27/01;G06F3/01;G06T15/20;G06T19/00;G09G3/00;G09G5/02;H04N13/144;H04N13/327;H04N13/344;H04N13/383;H04N13/3 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 贺月娇;于静 |
| 地址： | 美国佛*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及光场显示度量。公开了用于显示器的光场度量系统的示例。所述光场度量可以捕获投影光场的图像，并且使用所捕获的图像来确定光场的各个区域的焦深(或横向焦点位置)。然后可以将所确定的焦深(或横向位置)与预期焦深(或横向位置)进行比较，以量化显示器的缺陷。基于所测量的缺陷，可以对光场执行适当的误差校正以校正所测量的缺陷。所述显示器可以是头戴式显示器中的光学显示元件，例如能够产生多个深度平面的光学显示元件或光场显示器。 | ||
| 搜索关键词： | 显示 度量 | ||
【主权项】：
暂无信息
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