[发明专利]一种微小晶片的光刻方法、晶片载片及光刻工装在审
| 申请号： | 202110295030.X | 申请日： | 2021-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN113064333A | 公开（公告）日： | 2021-07-02 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 北京智创芯源科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/38;H01L21/027;H01L21/68 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王雨 |
| 地址： | 100095 北京市大兴区北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种微小晶片的光刻方法，通过将待光刻晶片嵌设于晶片载片的装片卡槽上；其中，所述晶片载片包括与所述装片卡槽共面设置的对准标记；对所述待光刻晶片进行涂胶并烘烤；根据所述对准标记对经过烘烤的待光刻晶片进行投影曝光；对曝光后的待光刻晶片进行显影，得到具有图形化光刻胶层的微小晶片。本发明通过将待光刻晶片嵌设于装片卡槽中，降低了涂胶中待光刻晶片的边缘效应，使涂覆于待光刻晶片的光刻胶层的均匀性大大提升，另外，设置于晶片载片上的对准标记为投影曝光步骤提供了对准根据，可使用投影光刻机进行自动对准，大大提高了光刻的对准精度及生产效率。本发明同时还提供了一种具有上述有益效果的晶片载片及光刻工装。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 微小 晶片 光刻 方法 工装 | ||
【主权项】：
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