[发明专利]一种同时测量同位素丰度与杂质含量的质谱系统与方法有效
| 申请号： | 202110302534.X | 申请日： | 2021-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN113156032B | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 姜山 | 申请（专利权）人： | 启先核（北京）科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N30/72 | 分类号： | G01N30/72;G01N30/06 |
| 代理公司： | 深圳市尔逊专利代理事务所(普通合伙) 44505 | 代理人： | 周盈如 |
| 地址： | 100043 北京市石景山*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种同时测量同位素丰度与杂质含量的质谱系统与方法，质谱系统包括：离子源系统，用于进样和引出多电荷态的离子束流；加速度子系统，用于对多电荷态离子进行加速、同时将多电荷态离子在能量和动量进行聚焦和分析；以及探测器子系统，用于检测同位素离子的束流、区分两种同量异位素以及区分两种具有相同质荷比的离子。本发明利用多电荷态的电子回旋共振离子源能够瓦解所有分子离子，利用薄膜吸收技术和单粒子能量探测技术能够分辨同量异位素离子，从而显著提高了同位素丰度测量的灵敏度，降低了对每一种元素的检测下限，能够实现材料或样品中同位素丰度比值和杂质含量的同时、准确以及快速测量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 同时 测量 同位素 杂质 含量 谱系 方法 | ||
【主权项】：
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