[发明专利]研磨剂组合物在审
| 申请号： | 202110303520.X | 申请日： | 2021-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN113444454A | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 川原彰裕;内藤健治 | 申请（专利权）人： | 山口精研工业株式会社 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人： | 孙明;龚敏 |
| 地址： | 日本国爱知县名古屋*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种研磨剂组合物，其中，在氧化物单晶材料基板的研磨中，抑制研磨时的载体鸣音并且能够实现研磨后的研磨表面的平坦性的提高和研磨速度的提高。一种研磨剂组合物，其用于对钽酸锂单晶材料或铌酸锂单晶材料进行研磨加工，上述研磨剂组合物含有二氧化硅颗粒、水溶性高分子化合物和水，二氧化硅颗粒包含平均粒径为10～60nm的小粒径二氧化硅颗粒和平均粒径为70～200nm的大粒径二氧化硅颗粒，小粒径二氧化硅颗粒的质量相对于小粒径二氧化硅颗粒和大粒径二氧化硅颗粒的总计质量的比例为50～95质量％，水溶性高分子化合物由多糖类构成。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨剂 组合 | ||
【主权项】：
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