[发明专利]一种应用于小尺寸样品光刻工艺的方法有效
申请号: | 202110304075.9 | 申请日: | 2021-03-22 |
公开(公告)号: | CN113031392B | 公开(公告)日: | 2022-12-30 |
发明(设计)人: | 冯梦阳;孟宪权;金鹏;周广迪;霍晓迪;徐鹏飞;王占国 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所;武汉大学 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G03F7/16;G03F7/20;B29C43/58;B29C43/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种应用于小尺寸样品光刻工艺的方法。该方法包括:将待光刻的小尺寸样品放置在冷压法所用设备的压片模具上;将压片用粉末材料填充到放置有小尺寸样品的压片模具中;对压片模具施加压力,将小尺寸样品嵌入到压制所述压片用粉末材料得到的压片中,以得到压片产品。利用本发明,解决了小尺寸样品在匀胶过程中的“边缘”效应问题,提高了样品的表面利用率;解决了在小尺寸样品光刻工艺中,匀胶机和光刻机的真空吸嘴尺寸与待光刻小尺寸样品尺寸不匹配的问题;并且该方法适用于形状规则和不规则的小尺寸样品。 | ||
搜索关键词: | 一种 应用于 尺寸 样品 光刻 工艺 方法 | ||
【主权项】:
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