[发明专利]一种用于熔石英磁流变抛光的高效率抛光浆料及制备方法有效
| 申请号： | 202110308106.8 | 申请日： | 2021-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN113004805B | 公开（公告）日： | 2022-02-11 |
| 发明（设计）人： | 叶敏恒;李晓媛;李启凯;叶作彦;潘金龙;王超 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 史丽红 |
| 地址： | 621000*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于熔石英磁流变抛光的高效率抛光浆料及制备方法，浆料包括如下质量百分比的组分：高活性纳米氧化铈颗粒2～5wt％，分散剂0.1～0.5％wt％，余量为去离子水；制备方法包括如下步骤：1)将分散剂置于去离子水中，采用匀浆机在2000r/min的转速下匀化10min获得分散液；2)将碱性调节剂置于1)的分散液中，继续匀化5min，与此同时调节pH值至7.5～12.0；3)pH值调节完毕后，向分散液中缓慢加入高活性氧化铈粉末，继续匀化30min。本发明的抛光浆料不仅可以显著提高对熔石英的去除效率，与此同时还能够保持熔石英的优异表面质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 石英 流变 抛光 高效率 浆料 制备 方法 | ||
【主权项】：
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