[发明专利]一种OVD工艺可调节沉积系统及其调节方法有效
申请号: | 202110313967.5 | 申请日: | 2021-03-24 |
公开(公告)号: | CN112795900B | 公开(公告)日: | 2021-08-03 |
发明(设计)人: | 李亚明 | 申请(专利权)人: | 藤仓烽火光电材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40;C23C16/52 |
代理公司: | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人: | 何伟 |
地址: | 430205 湖北省武汉*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及光纤预制棒制造技术领域,具体涉及一种OVD工艺可调节沉积系统及其调节方法,该系统包括两组腔体板组件、沉积量监测装置和控制装置。其中,两组所述腔体板组件形成带有进气侧和出气侧且用于沉积光纤预制棒的腔体,每组所述腔体板组件包括至少两块转动连接的腔体板,且所述腔体板可随着所述光纤预制棒的沉积调整角度;沉积量监测装置用于监测所述光纤预制棒的沉积量;控制装置用于根据获取的沉积量调整所述腔体板的角度以调节腔体的剩余空间。本方案能够解决现有技术中在沉积初期需要投入更多的反应气体、原料,以及在导致整个周期内沉积质量不一致的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 ovd 工艺 调节 沉积 系统 及其 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的