[发明专利]加工半导体晶片的方法、半导体晶片、夹和半导体器件在审

专利信息
申请号: 202110318330.5 申请日: 2021-03-25
公开(公告)号: CN113451155A 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: C·范柯林斯基;D·佩多内;M·皮钦;R·鲁普;戴秋莉;黄佳艺 申请(专利权)人: 英飞凌科技奥地利有限公司
主分类号: H01L21/52 分类号: H01L21/52;H01L21/04;H01L23/13;H01L23/15;H01L23/49
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 周家新
地址: 奥地利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了一种用于加工半导体晶片的方法。一种半导体晶片包括第一主表面和第二主表面。在半导体晶片内部产生缺陷,以限定出平行于第一主表面的脱离平面。加工第一主表面而限定出多个电子半导体部件。提供了一种玻璃结构,所述玻璃结构包括多个开口。所述玻璃结构附接到经加工的第一主表面,所述多个开口中的每个分别使多个电子半导体部件的相应区域未被覆盖。聚合物层被施加到第二主表面,并且通过将聚合物层冷却到其玻璃化转变温度以下,沿着脱离平面将半导体晶片分裂成半导体切片和剩留的半导体晶片。所述半导体切片包括所述多个电子半导体部件。
搜索关键词: 加工 半导体 晶片 方法 半导体器件
【主权项】:
暂无信息
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