[发明专利]长波红外芯片的去胶装置及去胶方法在审

专利信息
申请号: 202110319860.1 申请日: 2021-03-25
公开(公告)号: CN113145562A 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: 詹健龙;范斌 申请(专利权)人: 浙江焜腾红外科技有限公司
主分类号: B08B3/12 分类号: B08B3/12;B08B3/08;B08B3/10;B08B3/04
代理公司: 嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙) 33253 代理人: 熊亮亮
地址: 314000 浙江省嘉兴市经济技术开发*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了长波红外芯片的去胶装置,包括有依次设置的第一丙酮超声清洗机、第一去胶池、第二去胶池、第二丙酮超声清洗机、异丙醇清洗池和冲水池,所述第一丙酮超声清洗机和第二丙酮超声清洗机分别装有丙酮,第一去胶池和第二去胶池分别装有去胶液,异丙醇清洗池中装有异丙醇,冲水池中安装有冲水管,冲水管流出去离子水,第一去胶池和第二去胶池中分别安装有加热装置。还公开了相应的去胶方法。本发明的去胶工艺可以大大提升去胶液的去胶上限片数,且不增加其他物料消耗,极大的降低了芯片制造成本。
搜索关键词: 长波 红外 芯片 装置 方法
【主权项】:
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