[发明专利]一种晶体光轴取向的测量方法在审
| 申请号： | 202110321113.1 | 申请日： | 2021-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN113092387A | 公开（公告）日： | 2021-07-09 |
| 发明（设计）人： | 王楚慧;何倩;李方;秦培武 | 申请（专利权）人： | 清华大学深圳国际研究生院 |
| 主分类号： | G01N21/23 | 分类号： | G01N21/23;G06F17/16 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人： | 方艳平 |
| 地址： | 518055 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种晶体光轴取向的测量方法，包括：晶体样品放置于第一平面上，将入射光沿着第一方向入射到晶体样品的表面，采用穆勒矩阵测量系统测量此时晶体样品的第一穆勒矩阵；将晶体样品或入射光绕着第一旋转方向旋转角度ω以使得入射光以入射角为ω入射到晶体样品的表面，并采用穆勒矩阵测量系统测量此时晶体样品的第二穆勒矩阵；再将晶体样品或入射光绕着第二旋转方向旋转角度2ω以使得入射光以入射角为‑ω入射到晶体样品的表面，并采用穆勒矩阵测量系统测量此时晶体样品的第三穆勒矩阵；根据第一穆勒矩阵、第二穆勒矩阵和第三穆勒矩阵计算得到晶体样品的光轴取向。本发明能实现单轴晶体光轴取向的快速准确测量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 晶体 光轴 取向 测量方法 | ||
【主权项】：
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