[发明专利]像素器件有效

专利信息
申请号: 202110323016.6 申请日: 2021-03-25
公开(公告)号: CN113066810B 公开(公告)日: 2022-09-06
发明(设计)人: 顾超;冯鹏;郭振华;尹韬;于双铭;窦润江;刘力源;刘剑;吴南健 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 孙蕾
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种像素器件,包括:衬底;光电二极管,形成于衬底上,光电二极管包括P型外延层,以及形成于P型外延层内的N型埋层和表面P+层,其中,表面P+层形成于N型埋层上;N型埋层包括第一离子注入区和第二离子注入区,第一离子注入区至少部分地形成于第二离子注入区上,其中,第一离子注入区包括中心区域及位于中心区域外缘的多个尖形区域;浮置扩散区,形成于P型外延层的除表面P+层以外的区域内;环形传输晶体管栅极,至少部分地形成于光电二极管的上表面,且环形传输晶体管栅极环绕浮置扩散区。由于光电二极管的N型埋层包括具有中心区域及位于中心区域外缘的多个尖形区域的第一离子注入区,加速了光生电荷从N型埋层向浮置扩散区的转移。
搜索关键词: 像素 器件
【主权项】:
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