[发明专利]基于CMOS工艺的红外探测器镜像像元和红外探测器有效

专利信息
申请号: 202110324085.9 申请日: 2021-03-26
公开(公告)号: CN113865723B 公开(公告)日: 2022-12-02
发明(设计)人: 翟光杰;武佩;潘辉;翟光强 申请(专利权)人: 北京北方高业科技有限公司
主分类号: G01J5/10 分类号: G01J5/10;G01J5/20;G01J5/24;G01J5/58;G01J5/00;G01J5/068
代理公司: 北京开阳星知识产权代理有限公司 11710 代理人: 祝乐芳
地址: 100070 北京市丰台*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开涉及一种基于CMOS工艺的红外探测器镜像像元和红外探测器,该镜像像元包括:CMOS测量电路系统和CMOS红外传感结构均使用CMOS工艺制备,在CMOS测量电路系统上方直接制备CMOS红外传感结构;CMOS红外传感结构包括反射层和红外转换结构,红外转换结构通过支撑底座与CMOS测量电路系统电连接,构成热敏层的材料包括非晶硅、氧化钛、氧化钒或氧化钛钒中的至少一种;CMOS测量电路系统与红外转换结构之间未形成谐振腔,或者形成的谐振腔无法将红外光反射至红外转换结构,或者红外转换结构反射红外光。通过本公开的技术方案,解决了传统MEMS工艺红外探测器的性能低,像素规模低,良率低等问题。
搜索关键词: 基于 cmos 工艺 红外探测器 镜像像元
【主权项】:
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