[发明专利]一种用于化学机械研磨的研磨垫及其制备方法在审
| 申请号： | 202110324434.7 | 申请日： | 2021-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN113024768A | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | 贺锦军;卢永祥;王杰男;其他发明人请求不公开姓名 | 申请（专利权）人： | 普利英（重庆）创新科技有限公司 |
| 主分类号： | C08G18/76 | 分类号： | C08G18/76;C08G18/32;C08K7/20;B24B37/24 |
| 代理公司： | 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 | 代理人： | 崔瑞迎 |
| 地址： | 400020 *** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体技术领域，具体来说是一种用于化学机械研磨的研磨垫及其制备方法，由如下重量份数的原料制成：聚亚安酯预聚物树脂50‑90份；多元醇30‑70份；二异氰酸酯20‑50份；填料1‑15份；固化剂5‑30份。本发明对聚氨酯进行了改性，将聚亚安酯与聚氨酯预聚体形成复合材料，通过聚亚安酯预聚物树脂的共混实现提升聚氨酯性能的目的，延长使用寿命并延缓抛光的“釉化”，増加耐磨性能；同时对研磨垫进行设计，克服被研磨面的表面不均匀和平坦性不充分问题，从而制得能够保证更均衡切除速率的改性抛光垫。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 化学 机械 研磨 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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