[发明专利]硅片制绒产线在审
申请号: | 202110324971.1 | 申请日: | 2021-03-26 |
公开(公告)号: | CN112909133A | 公开(公告)日: | 2021-06-04 |
发明(设计)人: | 马琦雯;邓舜 | 申请(专利权)人: | 常州时创能源股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0236 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 213300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种硅片制绒产线,包括按先后工序依次设置的:链式氧化炉,第一链式酸洗机,第一插片机,氧化槽,第一清水槽,制绒槽,第二清水槽,第二插片机,第二链式酸洗机,链式烘干炉。本发明在制绒槽前道设置链式氧化炉,可在制绒之前,在链式氧化炉中对硅片进行高温氧化处理,使硅片表面的有机脏污分解,可完全去除硅片表面的有机脏污,可避免因有机脏污残留在硅片表面而使制绒出现白斑、亮点等问题。 | ||
搜索关键词: | 硅片 制绒产线 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的