[发明专利]一种基于高阶交叉相位的多边形完美涡旋光制备与操控方法在审

专利信息
申请号: 202110326216.7 申请日: 2021-03-26
公开(公告)号: CN113064284A 公开(公告)日: 2021-07-02
发明(设计)人: 任元;丁友;王琛;刘通;陈琳琳;邱松;刘政良;李瑞健 申请(专利权)人: 中国人民解放军战略支援部队航天工程大学
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09
代理公司: 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 代理人: 郑久兴
地址: 101416*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种基于高阶交叉相位的多边形完美涡旋光制备与操控方法。完美涡旋光是一种光束半径与拓扑荷数无关的涡旋光场,交叉相位是一种特殊的光场相位结构,可将完美涡旋光调控为多边形,3阶及以上称为高阶交叉相位。首先利用多参量联合调控技术制备携带完美涡旋光信息与交叉相位的全息图样,并加载到空间光调制器,一束线偏振高斯光照射到空间光调制器进行复振幅调制,出射光经过一个凸透镜,在透镜的后焦面上即可得到多边形完美涡旋光,调节高阶交叉相位参数可操控完美涡旋光的形状和光强分布。本方法光路简洁,灵活性强,属于涡旋光操控领域,可应用于多边形完美涡旋光制备与操控,以及微观粒子的光学操控。
搜索关键词: 一种 基于 交叉 相位 多边形 完美 涡旋 制备 操控 方法
【主权项】:
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