[发明专利]一种用于DMD投影光刻的空间光强度匀化系统及其设计方法在审
| 申请号： | 202110326319.3 | 申请日： | 2021-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN112946906A | 公开（公告）日： | 2021-06-11 |
| 发明（设计）人： | 段宣明;邓明杰;赵圆圆 | 申请（专利权）人： | 暨南大学 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09;G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 刘俊 |
| 地址： | 510632 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提出一种用于DMD投影光刻的空间光强度匀化系统，为解决现有DMD投影光刻系统中目标面处的光场均匀性差、能量利用率低的问题。该系统包括由前自由曲面和后自由曲面集成在一个透镜上的结构；其设计方法包括以下步骤：建立空间坐标系；对前自由曲面和目标面进行划分，根据能量映射关系建立矢量坐标对应关系；对前自由曲面采用斯涅耳定律进行迭代求解，得到前自由曲面上所有点的坐标；将前自由曲面母线的所有出射单位向量作为后自由曲面的入射向量，结合斯涅耳定律和等光程边界条件进行迭代求解，得到后自由曲面的所有点的坐标；根据前后自由曲面的所有点坐标构建双自由曲面的截面结构，得到能够实现目标面处空间光强度匀化的系统。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 dmd 投影 光刻 空间 强度 系统 及其 设计 方法 | ||
【主权项】：
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