[发明专利]一种低清洗残留磁珠及其制备方法有效
| 申请号： | 202110329505.2 | 申请日： | 2021-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN112979772B | 公开（公告）日： | 2022-06-24 |
| 发明（设计）人： | 杨志伟;刘铮;胡春苗 | 申请（专利权）人： | 江苏集萃分子工程研究院有限公司;苏州易莱生物技术有限公司 |
| 主分类号： | C07K14/36 | 分类号： | C07K14/36;C07K1/13;C07K1/113;C07C51/09;C07C59/68;C07C67/31;C07C69/712 |
| 代理公司： | 苏州瞪羚知识产权代理事务所(普通合伙) 32438 | 代理人： | 张宇 |
| 地址： | 215500 江苏省苏州市常熟*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于电化学检测材料技术领域，具体涉及一种低清洗残留磁珠及其制备方法。该磁珠是由羟基和炔基表面修饰的磁珠与三[(1‑苄基‑1H‑1,2,3‑三唑‑4‑基)甲基]胺‑铜（I）络合物和叠氮化合物标记的链霉亲和素进行反应制得。本发明的有益效果是：本发明通过先对氨基磁珠表面进行羟基和炔基的修饰；然后将三[(1‑苄基‑1H‑1,2,3‑三唑‑4‑基)甲基]胺‑铜（I）络合物和叠氮化合物标记的链霉亲和素对氨基磁珠进行进一步表面修饰，制得一种低清洗残留磁珠，有效降低了磁珠在电极表面的残留，可以更容易被清洗液洗去。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 残留 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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