[发明专利]一种磷化铟衬底的抛光工艺有效
申请号: | 202110331419.5 | 申请日: | 2021-03-29 |
公开(公告)号: | CN112975592B | 公开(公告)日: | 2022-02-15 |
发明(设计)人: | 王书杰;孙聂枫;王阳;李晓岚;史艳磊;邵会民;付莉杰;刘铮;孙同年;刘惠生 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十三研究所 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;B24B29/02;B24B57/02;C25F3/30 |
代理公司: | 石家庄众志华清知识产权事务所(特殊普通合伙) 13123 | 代理人: | 王苑祥 |
地址: | 050000 河北*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 一种磷化铟衬底的抛光工艺,属于磷化铟抛光技术领域,基于磷化铟的抛光装置来实现,所述抛光装置包括电解槽、借助阳极升降机构定位在电解槽底部中心位置的阳极盘支撑杆、铰接在阳极盘支撑杆上端的阳极盘、借助阴极升降机构定位在阳极盘上方的阴极盘支撑杆、设置在阴极盘支撑杆下端的阴极盘、借助连接机构设置在阳极盘上的石墨电极板、借助中间驱动机构设置在石墨电极板上端面的游星轮组、与中间驱动机构连接的阳极转动驱动机构、与阴极盘支撑杆连接的阴极转动驱动机构以及借助导线分别与阳极盘支撑杆和阴极盘支撑杆的触点连接的抛光直流电源。通过对装置本身的结构和工艺进行改进,结合电化学抛光、机械抛光技术的优点,使得磷化铟的抛光过程对环境要求大为降低,且抛光效果理想。 | ||
搜索关键词: | 一种 磷化 衬底 抛光 工艺 | ||
【主权项】:
暂无信息
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