[发明专利]晶圆的测量机台及清洗方法在审

专利信息
申请号: 202110341274.7 申请日: 2021-03-30
公开(公告)号: CN112908924A 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: 刘雨轩 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;B08B5/04;B08B13/00
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 高洁;张颖玲
地址: 430074 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本申请公开了一种晶圆的测量机台,包括载片台、真空抽气单元、压力吹气单元和控制单元,载片台处于测量晶圆的第二位置时,通过控制单元调节,使得真空抽气单元与吸附孔连通向吸附孔内抽真空,将晶圆吸附在载片台上,晶圆测量完后,通过控制单元调节,使得压力吹气单元与吸附孔连通,向吸附孔吹送压力气体,以便移除晶圆。载片台处于清洁的第一位置时,通过控制单元调节使得压力吹气单元与吸附孔连通,向吸附孔吹送压力气体,对载片台进行清洁,从而提高载片台的清洁度。本申请还公开了一种晶圆的测量机台的清洗方法,通过控制单元控制压力吹气单元与吸附孔连通,对载片台进行气压清洁,从而提高载片台的洁净度,提高晶圆的良品率。
搜索关键词: 测量 机台 清洗 方法
【主权项】:
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