[发明专利]MOS器件闪烁噪声模型及提取方法在审
申请号: | 202110343014.3 | 申请日: | 2021-03-30 |
公开(公告)号: | CN113095037A | 公开(公告)日: | 2021-07-09 |
发明(设计)人: | 周艳;商干兵 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G06F30/398 | 分类号: | G06F30/398 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 周耀君 |
地址: | 201315*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种MOS器件闪烁噪声模型及提取方法,提取方法包括:设计不同尺寸的MOS器件结构,并根据各个MOS器件的尺寸将所有MOS器件划分为第一MOS器件和第二MOS器件;测量不同尺寸的MOS器件的闪烁噪声数据;建立基本的闪烁噪声模型;对所述第一MOS器件的闪烁噪声特性进行曲线拟合;建立引入与器件宽度相关的修正函数的闪烁噪声模型;对所述第二MOS器件的闪烁噪声特性进行曲线拟合;对所述第二MOS器件的闪烁噪声模型进行验证。本发明在原有噪声模型的基础上,通过引入与MOS器件长度和宽度相关的修正函数,提高了小尺寸MOS器件闪烁噪声模型的拟合精度,使之能更精确地表征不同尺寸下器件的实际噪声特性。 | ||
搜索关键词: | mos 器件 闪烁 噪声 模型 提取 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110343014.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。