[发明专利]一种图像传感器的制作方法在审

专利信息
申请号: 202110343076.4 申请日: 2021-03-30
公开(公告)号: CN112951863A 公开(公告)日: 2021-06-11
发明(设计)人: 孙成洋;钱俊;孙昌;秋沉沉 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 周耀君
地址: 201315*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种图像传感器的制作方法,提供一晶圆,所述晶圆上形成有芯片区域,所述芯片区域包括电路区域和像素区域,所述像素区域外环绕设置所述电路区域,所述电路区域形成有晶体管和铝焊盘,所述铝焊盘环绕设置于所述晶体管的外围;所述铝焊盘的表面形成有结晶缺陷;在所述晶圆上形成图形化的光刻胶,所述图形化的光刻胶覆盖所述像素区域和所述电路区域的晶体管,并暴露出所述电路区域的铝焊盘;去除所述铝焊盘的表面上的结晶缺陷;进行湿法清洗工艺,以去除所述铝焊盘表面的氟离子;进行氧化工艺,以在所述铝焊盘的表面上形成氧化膜,防止所述铝焊盘的表面再次产生结晶缺陷。
搜索关键词: 一种 图像传感器 制作方法
【主权项】:
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