[发明专利]一种超薄基膜的连续式卷绕真空镀膜方法有效
| 申请号： | 202110345072.X | 申请日： | 2021-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN112853275B | 公开（公告）日： | 2023-07-25 |
| 发明（设计）人： | 李成林;杜雪峰;郝明 | 申请（专利权）人： | 辽宁分子流科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/35;C23C14/54;C23C14/56 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 110179 辽宁省沈阳*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明公开一种超薄基膜的连续式卷绕真空镀膜方法，用于新能源动力电池领域中在柔性基膜上制备多层膜层，主要包括：（1）将基膜放置在真空镀膜机的放卷室中的放卷辊上，关闭真空室，对真空室进行抽真空；（2）在真空环境中采用真空穿膜机构使基膜在卷绕系统上真空穿膜；（3）当真空镀膜机的真空蒸发镀膜室和磁控溅射镀膜室中的真空度达到工艺要求时，启动卷绕系统、蒸发装置和磁控靶；磁控溅射镀膜室竖直立式排布，真空蒸发镀膜室呈层叠排布于磁控溅射镀膜室的两侧；基膜走膜依次经过一侧的真空蒸发镀膜室、磁控溅射镀膜室和另一侧的真空蒸发镀膜室，分别进行蒸发镀膜和磁控溅射镀膜，实现在基膜的两面分别镀制多层膜层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 超薄 连续 卷绕 真空镀膜 方法 | ||
【主权项】：
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