[发明专利]光学器件和制造光学器件的方法在审
| 申请号： | 202110345976.2 | 申请日： | 2021-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN113156583A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 宋巍巍;陈建宏;林志昌;斯帝芬·鲁苏;徐敏翔 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/13 | 分类号： | G02B6/13;G02B6/30;G02B6/122;G02B6/124 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 公开了制造具有高折射率材料的光学器件的方法。方法包括：在衬底上形成第一氧化物层；以及在第一氧化物层上形成具有第一沟槽和第二沟槽的图案化的模板层。图案化的模板层的材料具有第一折射率。方法还包括：在第一沟槽和第二沟槽内分别形成波导的第一部分和光耦合器的第一部分；在图案化的模板层的顶面上形成波导的第二部分和光耦合器的第二部分；以及在波导和光耦合器的第二部分上沉积包覆层。波导和光耦合器包括具有比第一折射率大的第二折射率的材料。本申请的实施例还涉及光学器件。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
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