[发明专利]一种制备二氧化钛超透镜的大面积加工工艺在审
申请号: | 202110346399.9 | 申请日: | 2021-03-31 |
公开(公告)号: | CN113097343A | 公开(公告)日: | 2021-07-09 |
发明(设计)人: | 张琬皎;郭小青 | 申请(专利权)人: | 杭州欧光芯科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0232;H01L31/101 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 林超 |
地址: | 311200 浙江省杭州市大江东产业*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种制备二氧化钛超透镜的大面积加工工艺。包括在基底的上沉积一层二氧化钛膜;在二氧化钛膜的上沉积一层金属层;在金属层的上旋涂一层压印胶层,采用纳米压印方法在压印胶层的上表面上得到微纳结构图案;先对压印胶层和金属层进行刻蚀;再对金属层和二氧化钛膜进行刻蚀,并在基底上得到呈微纳结构图案的二氧化钛。本发明具有效率高、成本低和可以大面积制备的优点,并且采用本发明得到的二氧化钛具有优异的深宽比,本发明制备的二氧化钛的深宽比为10:1;本发明解决了现有技术中难以大面积制备的技术难题,并且采用本发明制备的二氧化钛结构垂直度高接近于90度,提高了二氧化钛结构光学性能更优异,并且提高光学传感性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 制备 氧化 透镜 大面积 加工 工艺 | ||
【主权项】:
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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