[发明专利]一种晶圆级绝对单层过渡金属硫族化合物的制备方法和应用有效
申请号: | 202110347870.6 | 申请日: | 2021-03-31 |
公开(公告)号: | CN113088922B | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 冯晴亮;陈立灵;任思玥;张文斌 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/02;C23C16/44;H01L29/24 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 巩克栋 |
地址: | 710072 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明涉及一种晶圆级绝对单层过渡金属硫族化合物的制备方法和应用,所述制备方法包括如下步骤:(1)对蓝宝石基底进行第一次退火处理,得到具有原子级平整表面的蓝宝石基底;(2)在步骤(1)得到的蓝宝石基底的原子级平整表面上加载过渡金属盐溶液,进行第二次退火处理,得到加载单分散过渡金属源的蓝宝石基底;(3)在所述加载单分散过渡金属源的蓝宝石基底上通过化学气相沉积的方法生长过渡金属硫族化合物。本发明提供的方法制备得到的二维材料为绝对单层,可实现晶圆级(两英寸、四英寸、八英寸、十二英寸)蓝宝石衬底上的批量制备,其晶体质量高、单晶尺寸大,且操作简单、成本低、易于工业化。 | ||
搜索关键词: | 一种 晶圆级 绝对 单层 过渡 金属 化合物 制备 方法 应用 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的