[发明专利]一种晶圆级绝对单层过渡金属硫族化合物的制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202110347870.6 申请日: 2021-03-31
公开(公告)号: CN113088922B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 冯晴亮;陈立灵;任思玥;张文斌 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: C23C16/30 分类号: C23C16/30;C23C16/02;C23C16/44;H01L29/24
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 巩克栋
地址: 710072 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种晶圆级绝对单层过渡金属硫族化合物的制备方法和应用,所述制备方法包括如下步骤:(1)对蓝宝石基底进行第一次退火处理,得到具有原子级平整表面的蓝宝石基底;(2)在步骤(1)得到的蓝宝石基底的原子级平整表面上加载过渡金属盐溶液,进行第二次退火处理,得到加载单分散过渡金属源的蓝宝石基底;(3)在所述加载单分散过渡金属源的蓝宝石基底上通过化学气相沉积的方法生长过渡金属硫族化合物。本发明提供的方法制备得到的二维材料为绝对单层,可实现晶圆级(两英寸、四英寸、八英寸、十二英寸)蓝宝石衬底上的批量制备,其晶体质量高、单晶尺寸大,且操作简单、成本低、易于工业化。
搜索关键词: 一种 晶圆级 绝对 单层 过渡 金属 化合物 制备 方法 应用
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