[发明专利]一种高轨SAR对低轨SAR成像的射频干扰影响评估方法有效
| 申请号： | 202110351415.3 | 申请日： | 2021-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN113156437B | 公开（公告）日： | 2022-08-19 |
| 发明（设计）人： | 董锡超;隋仪;陈志扬;李元昊;胡程 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学;北京理工大学重庆创新中心;北京理工大学前沿技术研究院 |
| 主分类号： | G01S13/90 | 分类号： | G01S13/90;G01S7/36 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 刘西云;李微微 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种高轨SAR对低轨SAR成像的射频干扰影响评估方法，可根据高轨SAR与低轨SAR的系统参数以及地面双基地散射系数计算来自高轨SAR的射频干扰信号聚焦后的功率，然后利用低轨SAR信号聚焦后的功率和射频干扰信号聚焦后的功率计算聚焦后图像SINR，从而有效地评估高轨SAR信号对低轨SAR成像产生的影响，实现高轨SAR对低轨SAR射频干扰影响的定量分析，进而判断高轨SAR是否对低轨SAR的成像产生影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 sar 成像 射频 干扰 影响 评估 方法 | ||
【主权项】：
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