[发明专利]被照射的标志组件在审
| 申请号： | 202110352998.1 | 申请日： | 2021-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN113823199A | 公开（公告）日： | 2021-12-21 |
| 发明（设计）人： | 塞尔吉奥·皮尔斯·吉列姆;胡安·蒙莱昂;安东尼奥·埃斯克里巴;罗宾·贝斯特;克里斯托弗·布拉德利;埃米琳·比希斯 | 申请（专利权）人： | SRG利里亚全球有限公司 |
| 主分类号： | G09F13/04 | 分类号： | G09F13/04;F21V8/00;F21V19/00;F21V7/00;F21Y115/10 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 沈智娟 |
| 地址： | 西班牙*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种被照射的标志组件，该被照射的标志组件包括：标志主体，该标志主体包括标志边缘；壳体，该壳体包括腔室；光源，该光源定位在该腔室的第二端部处；和光导，该光导定位在壳体孔口上方，该光导具有面向该标志主体的近侧和面向该光源的远侧。光通过设置在该远侧上的壳体侧入射表面进入该光导。第一出射表面由该近侧的第一近侧边缘和该远侧的第一远侧边缘限定。第二出射表面由第二近侧边缘和第二远侧边缘限定。该被照射的标志组件包括反射器，该反射器引导离开该光导的反射器侧透射表面的光穿过并且朝向该第一出射表面和该第二出射表面返回。被照射的标志组件具有改善的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 照射 标志 组件 | ||
【主权项】：
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