[发明专利]具有日间辐射制冷的多孔聚二甲基硅氧烷及其制备方法有效
| 申请号： | 202110356113.5 | 申请日： | 2021-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN113072737B | 公开（公告）日： | 2022-09-06 |
| 发明（设计）人： | 邓元;翁杨紫菀;赵未昀;姜一 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学杭州创新研究院 |
| 主分类号： | C08J9/26 | 分类号： | C08J9/26;C08L83/04 |
| 代理公司： | 北京细软智谷知识产权代理有限责任公司 11471 | 代理人： | 刘静培 |
| 地址： | 310000 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种具有日间辐射制冷的多孔聚二甲基硅氧烷的制备方法，先合成微米级NaCl致孔剂，通过控制微米级NaCl致孔剂的大小和用量来控制合成多孔PDMS内孔隙的分布和尺寸，实现无需附加条件下的多孔PDMS的日间辐射制冷；所述多孔聚二甲基硅氧烷内的孔隙，一方面提高PDMS本身的中红外发射率(较无孔PDMS而言)、散射太阳光谱波段的光，另一方面孔隙内的空气隔绝散热物体与周围环境的热交换。协同的热光效应保证多孔PDMS膜优异的辐射制冷效果；本发明所述方法，制备工艺简单、成本低廉、可实现批量制备；制备全程不需添加额外的金属或聚合物反射层，利用多孔PDMS本身的孔隙结构就能反射95％的太阳辐射。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 日间 辐射 制冷 多孔 聚二甲基硅氧烷 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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