[发明专利]一种微波等离子体加工装置有效
申请号: | 202110356303.7 | 申请日: | 2021-04-01 |
公开(公告)号: | CN113151809B | 公开(公告)日: | 2022-07-22 |
发明(设计)人: | 龚闯;朱长征;吴剑波;蒋剑宏 | 申请(专利权)人: | 上海征世科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511;C23C16/27 |
代理公司: | 上海邦德专利代理事务所(普通合伙) 31312 | 代理人: | 袁步兰 |
地址: | 201799 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种微波等离子体加工装置,包括微波源、微波环形器、功率调节器、矩形波导、调谐器、天线、反应箱、混气系统、真空系统,微波源连接微波环形器,微波环形器射出端连接矩形波导,功率调节器分别连接微波环形器的射出端和微波源,功率调节器根据微波射出功率调整微波源激发功率,矩形波导侧壁上设置调谐器,反应箱安装到矩形波导的末端侧面,天线插入矩形波导和反应箱的顶端,混气系统往反应箱内注入工质气体,真空系统对反应箱内抽真空并保持真空状态;反应箱内等离子云受电磁力而进行内循环。 | ||
搜索关键词: | 一种 微波 等离子体 加工 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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