[发明专利]一种多炉管的原子层沉积设备在审
| 申请号： | 202110356604.X | 申请日： | 2021-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN112921304A | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 陶俊;张三洋;王雪楠;刘敏星;高根震;姚丽英 | 申请（专利权）人： | 无锡琨圣智能装备股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/52;C23C16/54 |
| 代理公司： | 无锡苏元专利代理事务所(普通合伙) 32471 | 代理人： | 吴忠义 |
| 地址： | 214000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于真空设备领域，提供了一种多炉管的原子层沉积设备，包括至少两个炉管，每个炉管的炉尾通过连接管共同连接有一个总管路，总管路的另一端连接有一个真空抽吸装置。本发明提供的多炉管的原子层沉积设备，各炉管共用一套真空系统，保证薄膜沉积均匀性的同时提高了设备的总产能，降低了相同产能配置所需的设备成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 炉管 原子 沉积 设备 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
