[发明专利]集成电路装置在审

专利信息
申请号: 202110357020.4 申请日: 2021-04-01
公开(公告)号: CN113270410A 公开(公告)日: 2021-08-17
发明(设计)人: 廖忠志 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/11 分类号: H01L27/11
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 集成电路装置,包括具GAA晶体管的存储器单元及具虚拟FinFET的井带单元。GAA晶体管包括沿第一方向延伸的第一鳍片,而虚拟FinFET包括沿第一方向延伸的第二鳍片。GAA晶体管包括第一鳍片上的第一源极/漏极特征及第一源极/漏极特征间的悬挂通道层。第一源极/漏极特征包括第一类型掺杂物。悬挂通道层具有沿不同于第一方向的第二方向的第一通道宽度。虚拟FinFET包括第二鳍片上的第二源极/漏极特征及第二源极/漏极特征间的鳍片通道层。第二源极/漏极特征包括第二类型掺杂物。鳍片通道层具有沿第二方向的第二通道宽度。第二通道宽度大于第一通道宽度。
搜索关键词: 集成电路 装置
【主权项】:
暂无信息
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