[发明专利]半导体元件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110358791.5 申请日: 2021-04-02
公开(公告)号: CN113497041A 公开(公告)日: 2021-10-12
发明(设计)人: 杨圣辉 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L21/8242
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 本公开提供一种半导体元件及该半导体元件的制备方法。该半导体元件具有一基底、一鳍件、一栅极结构、一对源极/漏极区、一介电层以及一存储导电层,该鳍件位在该基底上,该栅极结构位在该鳍件上,该对源极/漏极区位在该鳍件的两侧上,该介电层位在该漏极区上并邻近该栅极结构,该存储导电层位在该介电层上。该漏极区、该介电层以及该存储导电层形成一存储结构。
搜索关键词: 半导体 元件 及其 制备 方法
【主权项】:
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