[发明专利]半导体元件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110358809.1 申请日: 2021-04-02
公开(公告)号: CN113497086A 公开(公告)日: 2021-10-12
发明(设计)人: 林昌杰 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: H01L27/22 分类号: H01L27/22;H01L43/08;H01L43/12
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 本公开提供一种半导体元件及该半导体元件的制备方法。该半导体元件包括一基底;一鳍件,位在该基底上;一栅极结构,位在该鳍件上;一对源极/漏极区,位在该鳍件的两侧上;以及一磁性存储结构,位在该漏极区上并邻近该栅极结构;其中,该存储结构包含一下铁磁层、一通道阻障层以及一下铁磁层,该下铁磁层位在该漏极区上且具有可变磁极、该通道阻障层位在该下铁磁层上,该上铁磁层位在该通道阻障层上且具有固定磁极。
搜索关键词: 半导体 元件 及其 制备 方法
【主权项】:
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