[发明专利]一种自旋场效应晶体管、制备方法以及电路在审

专利信息
申请号: 202110361894.7 申请日: 2021-04-02
公开(公告)号: CN113270489A 公开(公告)日: 2021-08-17
发明(设计)人: 陆显扬;闫鑫;周建;赵俊峰;唐文涛;罗时江 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: H01L29/66 分类号: H01L29/66;H01L29/78;H01L29/06;H01L21/336;H01L43/02;H01L43/12
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 张翠华
地址: 518129 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种自旋场效应晶体管、制备方法以及电路,本申请提供的自旋场效应晶体管包括漏极、源极以及沟道层。漏极、源极均位于沟道层之上,源极和漏极均包括复合磁性薄膜,该复合磁性薄膜包括堆叠的第一磁性薄膜和第二磁性薄膜,第一磁性薄膜和第二磁性薄膜的材料不同。在本申请中,通过改变对源极施加的电流,可以改变漏极中的磁化方向,进而使得漏极和源极的磁化方向呈现不同的状态,实现自旋场效应晶体管的高低阻态。可见,自旋场效应晶体管在工作时,不再需要施加磁场,只需施加电流,工作方式较为简单,能够有效减少自旋场效应晶体管的功耗。
搜索关键词: 一种 自旋 场效应 晶体管 制备 方法 以及 电路
【主权项】:
暂无信息
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