[发明专利]前驱体涂布激光制备氮化钽膜装置及方法有效
申请号: | 202110362659.1 | 申请日: | 2021-04-02 |
公开(公告)号: | CN113073311B | 公开(公告)日: | 2023-05-12 |
发明(设计)人: | 蔡志隆;刘崇志 | 申请(专利权)人: | 泰杋科技股份有限公司;北京利宝生科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/48 | 分类号: | C23C16/48;C23C16/34;C23C16/448 |
代理公司: | 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 | 代理人: | 罗恒兰 |
地址: | 中国台湾新竹县竹*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及前驱体涂布激光制备氮化钽膜装置及方法,装置包括底座、喷笔和激光镜头模块,所述的喷笔和激光镜头模块设置在底座上。本发明通过激光镜头模块对基础材料表面进行照射使之表面温度升高,喷笔中通过高压载体气体将液态涂料雾化并预先混合成反应前驱体,反应前驱体自出料孔喷射到加热后的基础材料表面反应形成氮化钽。本发明的实施方法通过交替的供给液体涂料参于反应,可以提高氮化钽薄膜中的钽、氮的占比,从而得到质量优良的氮化钽薄膜。本发明可在大气下工作,对环境要求低,成膜质量高;克服了现有工艺对成膜设备以及严苛环境的依赖,使得氮化钽成膜工艺变成一种简易的喷涂工艺,极大地降低了设备成本,而且便于操作实施。 | ||
搜索关键词: | 前驱 体涂布 激光 制备 氮化 装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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