[发明专利]一种单向可控硅芯片及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202110363301.0 申请日: 2021-04-02
公开(公告)号: CN113097299A 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 王成森;钱清友;张思洁 申请(专利权)人: 江苏捷捷微电子股份有限公司
主分类号: H01L29/74 分类号: H01L29/74;H01L29/06;H01L29/417;H01L29/423;H01L21/332
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 荣颖佳
地址: 226200 江苏省南通*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 提供本发明公开了一种单向可控硅芯片及其制造方法,芯片包括盆形阴极区、阳极区、长基区、盆形短基区、环形门极、阳极、阴极、表面钝化膜,制造方法包括以下步骤:硅单晶片选择;硅片抛光;氧化;双面光刻阴极区对通隔离窗口;磷予沉积;双面光刻短基区对通窗口;离子注入铝;去胶;对通扩散;光刻正面阳极区窗口和背面短基区窗口;双面离子注入硼;双面推结;去除背面氧化层;背面阴极区扩散;光刻引线孔;正面蒸镀铝膜;反刻铝电极:用反刻版进行光刻;合金;背面喷砂;背面蒸镀电极;芯片测试;锯片;包装。本发明具有器件底板直接安装在散热器上并接地,且具有低热阻的优点;同时克服了封装过程中底部焊料与短基区短路的风险。
搜索关键词: 一种 单向 可控硅 芯片 及其 制造 方法
【主权项】:
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