[发明专利]一种带有端部弧面的触头结构系统及其应用的真空灭弧室在审

专利信息
申请号: 202110363741.6 申请日: 2021-04-02
公开(公告)号: CN113161194A 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: 刘劭玮;马慧;刘志远;耿英三;王建华 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: H01H33/664 分类号: H01H33/664;H01H33/666
代理公司: 西安智大知识产权代理事务所 61215 代理人: 何会侠
地址: 710049 陕*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种带有端部弧面的触头结构系统及其应用的真空灭弧室,该触头结构系统包括动、静侧带有端部弧面的触头结构组合以及灭弧室外部的永磁体组合;动、静侧带有端部弧面的触头结构组合包括动、静侧导电杆、分别焊接在动、静侧导电杆一端的动、静侧带有端部弧面的触头结构;动、静侧带端部弧面的触头结构正对放置;外部永磁体组合充磁方向与带有端部弧面的触头结构长边相垂直。直流真空灭弧室包括所述的带有端部弧面的触头结构、工字型外露屏蔽罩、动端瓷壳和静端瓷壳;本发明实现了真空电弧阴极斑点在触头表面的定向运动,同时当真空电弧运动至触头边缘时能够在小灭弧室体积的基础上实现电弧弧柱的进一步拉长;有助于真空直流电弧的开断。
搜索关键词: 一种 带有 端部弧面 结构 系统 及其 应用 真空 灭弧室
【主权项】:
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