[发明专利]掩膜版及其制备方法和蒸镀装置有效
| 申请号： | 202110372973.8 | 申请日： | 2021-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN113088876B | 公开（公告）日： | 2022-11-22 |
| 发明（设计）人： | 魏振业;李瑞涛;曾诚;张宏伟;孙震;马璐蔺 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56;C09D127/18;C09D7/62 |
| 代理公司： | 北京市铸成律师事务所 11313 | 代理人： | 郗名悦;闫茂娟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开实施例提供一种掩膜版及其制备方法和蒸镀装置，其中，掩膜版包括：本体；功能结构层，设于本体的一侧表面，功能结构层包括涂料前驱体层，涂料前驱体层包括含氟聚合物以及分散于含氟聚合物中的预处理后的微球颗粒，预处理后的微球颗粒具备疏水和/或疏油特性。本公开实施例的技术方案，降低了蒸镀工艺过程中有机材料在掩膜版上附着的概率，提高了屏幕产品的分辨率和良率；并且，有利于降低掩膜版的清洗难度，提高蒸镀工艺的加工效率。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 及其 制备 方法 装置 | ||
【主权项】：
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