[发明专利]基于二维材料的共电极三维器件结构及其制作方法有效

专利信息
申请号: 202110373665.7 申请日: 2021-04-07
公开(公告)号: CN113113406B 公开(公告)日: 2023-04-25
发明(设计)人: 毛亚会;刘玉菲;张斌;程璐;张文元 申请(专利权)人: 联合微电子中心有限责任公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L21/8234
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 罗泳文
地址: 401332 重庆市沙坪*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明提供一种基于二维材料的共电极三维器件结构及其制作方法,三维器件结构包括:衬底、第一二维材料功能层、第一二维材料介质层、二维材料共栅极层、第二二维材料介质层、第二二维材料功能层、源极及漏极,第一、二二维材料功能层形成有源区及漏区,源极连接多个源区并实现源区的电引出;漏极连接多个漏区并实现漏区的电引出。本发明实现了二维材料场效应晶体管的垂直互联设计,所用绝缘介质层、功能层、栅电极等均为二维材料,二维材料垂直方向尺寸极小,可以极大程度缩减器件垂直方向尺度,因此本发明可有效实现垂直方向的三维器件集成小型化。
搜索关键词: 基于 二维 材料 电极 三维 器件 结构 及其 制作方法
【主权项】:
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