[发明专利]半导体器件在审

专利信息
申请号: 202110376032.1 申请日: 2017-12-13
公开(公告)号: CN113224059A 公开(公告)日: 2021-08-06
发明(设计)人: 金智熏 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L21/768;H01L49/02;H01L21/8242
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 程丹辰
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种半导体器件包括:在第一方向和第二方向上布置在衬底上的多个下电极,第一方向平行于衬底的主表面,第二方向平行于衬底的主表面且垂直于第一方向;以及支撑结构图案,其在衬底上被构造为将所述多个下电极彼此连接以支撑所述多个下电极,并且包括多个开口部分。所述多个开口部分具有在第二方向上比在第一方向上延伸得更长的形状,并且当从所述多个开口部分的内侧被观察时,所述多个开口部分在第一方向上凸出并且在第二方向上凹入。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
暂无信息
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