[发明专利]二氧化钛中间层修饰陶瓷基TFN正渗透膜的方法及其应用在审
| 申请号： | 202110377424.X | 申请日： | 2021-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN113041864A | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 王栋;赵志育;董应超;付茂 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | B01D71/76 | 分类号： | B01D71/76;B01D71/56;B01D71/02;B01D69/12;B01D67/00;B01D65/10;B01D61/00 |
| 代理公司： | 大连星海专利事务所有限公司 21208 | 代理人： | 杨翠翠 |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 二氧化钛中间层修饰陶瓷基TFN正渗透膜的方法及其应用，其属于环境膜分离技术领域。引入纳米复合二氧化钛中间层，改善了支撑层的表面性质，为界面聚合提供良好的生长条件，同时引入新型多孔纳米材料MOF‑801，生长出更为致密的聚酰胺层，多孔的MOF‑801材料为水和溶剂分子的转输提供了额外的低阻力转输通道，提高了水通量和有机溶剂通量，同时聚酰胺膜和MOF‑801适当的孔径都有效地阻挡盐离子的通过，从而降低了反向盐通量，可以有效解决膜渗透性与选择性权衡问题，为活性层的结构设计提供了新思路和新方法。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 中间层 修饰 陶瓷 tfn 渗透 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连理工大学，未经大连理工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110377424.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：负载均衡方法及移动自组织网络
- 下一篇：冲洗引流装置及系统
