[发明专利]一种低成本高渗透性的晶须状陶瓷膜制备及其应用有效
| 申请号： | 202110377425.4 | 申请日： | 2021-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN113105223B | 公开（公告）日： | 2022-10-28 |
| 发明（设计）人： | 董应超;武慧;杨凤林;孙春意 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | C04B35/185 | 分类号： | C04B35/185;C04B35/634;C04B35/624;B01D67/00;B01D71/02 |
| 代理公司： | 大连星海专利事务所有限公司 21208 | 代理人： | 杨翠翠 |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种低成本高渗透性的晶须状陶瓷膜制备及其应用，其属于高渗透性膜制备的技术领域。该方法中添加氧化钨形成晶须结构陶瓷膜，它具有更低的莫来石形成温度，极大降低了烧结成本；具有更高的孔隙率而机械强度和较好的机械强度，提高了渗透性能；具有更粗糙的表面，有效地增强了膜的浸润性，在油水分离过程中具有更大的抗油污染能力。制备过程中通过采用相转化法或挤出成型法，可以分别得到中空纤维状、管状或中空平板状，大尺寸管状或平板状的晶须结构莫来石陶瓷膜，可用于大规模的工业应用。对于油水分离（如高浓度、高酸碱环境及复杂的含油废水等）晶须状莫来石陶瓷膜均表现出稳定的高渗透通量及高油截留率，具有广泛的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 低成本 渗透性 晶须状 陶瓷膜 制备 及其 应用 | ||
【主权项】：
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