[发明专利]聚脲分散渗入多面体陶瓷块防护结构及其加工方法在审
| 申请号： | 202110378055.6 | 申请日： | 2021-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN113108645A | 公开（公告）日： | 2021-07-13 |
| 发明（设计）人： | 刘健峰;叶琳;谭可可;常正阳;姜鹏飞;秦志强;陈换新;汪亚群;梁霄 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军火箭军工程设计研究院 |
| 主分类号： | F41H5/02 | 分类号： | F41H5/02 |
| 代理公司： | 北京慧智兴达知识产权代理有限公司 11615 | 代理人： | 董雪;刘宝山 |
| 地址： | 100011 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种聚脲分散渗入多面体陶瓷块防护结构，主要通过在防护结构中随机投入多层无序排列的多面体陶瓷块，并通过在在陶瓷块体间隙以及背面渗入聚脲抗爆涂层来粘接和填充陶瓷块体间隙，成型复合抗侵爆结构。该结构中多层无序排列的多面体陶瓷块在抵抗弹体侵彻时易使来袭弹体发生偏转，提高防护结构的抗侵彻能力。除此之外，该防护结构能够充分耦合陶瓷和聚脲涂层的力学性能，有效发挥陶瓷块体抗侵彻性能以及聚脲涂层的抗爆能力，提高了该复合结构的抗侵爆能力。 | ||
| 搜索关键词： | 分散 渗入 多面体 陶瓷 防护 结构 及其 加工 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军火箭军工程设计研究院，未经中国人民解放军火箭军工程设计研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110378055.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种无创脑血流检测系统
- 下一篇：一种基于VR的立体视觉训练、评估方法和装置
