[发明专利]一种降低主结体电场的积累场效应晶体管及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202110379146.1 申请日: 2021-04-08
公开(公告)号: CN113270477A 公开(公告)日: 2021-08-17
发明(设计)人: 段宝兴;王彦东;杨银堂 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/78;H01L21/336
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 唐沛
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开一种降低主结体电场的积累场效应晶体管及其制作方法。该器件中设置积累介质层,覆盖P型基区与N+漏区之间的区域;设置半导体材料的外延层,覆盖所述积累介质层;积累栅极和积累漏极,分别位于外延层的左端侧面、右端侧面;欧姆栅极与积累栅极通过导线连接,整体作为器件的栅极;欧姆漏极与积累漏极通过导线连接,整体作为器件的漏极。积累介质层可在衬底表面引入高浓度电子形成器件的电流通道,降低器件的导通电阻,同时取消传统LDMOS器件中的N型漂移区,在衬底中引入了N型埋层,可降低主结处的体电场(Reduced Bulk Field,REBULF),从而提升器件的击穿电压。
搜索关键词: 一种 降低 主结体 电场 积累 场效应 晶体管 及其 制作方法
【主权项】:
暂无信息
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