[发明专利]膜处理设备在审
| 申请号： | 202110380825.0 | 申请日： | 2021-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN113174587A | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 王质武 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 杜蕾 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种膜处理设备，包括：主体，包括第一腔体、第一进气口、第一出气口，所述第一进气口和所述第一出气口分别连通所述第一腔体；第一电极和第二电极，位于所述第一腔体内，所述第一电极和所述第二电极相对设置以围成处理腔体；以及导流组件，位于所述第一腔体内，包括第二腔体、第二进气口、第二出气口，所述第二进气口和所述第二出气口分别连通所述第二腔体，所述第二进气口正对所述处理腔体的侧部，所述第二出气口连通所述第一出气口；通过在所述膜处理设备内设置导流组件，使得所述膜处理设备内的气流分布更均匀，从而改善了所述膜处理设备的气流均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 设备 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
