[发明专利]晶片生成装置在审
申请号: | 202110387862.4 | 申请日: | 2021-04-12 |
公开(公告)号: | CN113539911A | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 饭塚健太吕;山本凉兵 | 申请(专利权)人: | 株式会社迪思科 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/67 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 于靖帅;乔婉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种晶片生成装置,即使发生停电或故障,半导体锭与晶片的父子关系也不会被破坏而始终明确。晶片生成装置包含:搬送托盘,其具有收纳半导体锭的锭收纳部和收纳从半导体锭生成的晶片的晶片收纳部;带式搬送机单元,其将搬送托盘搬送至各加工机;盒架,其与搬送托盘对应地载置收纳晶片的盒;以及转移单元,其将晶片从搬送托盘的晶片收纳部转移至载置在盒架上的盒中。在搬送托盘上施加有识别标记。在与搬送托盘对应的盒架或盒上施加有与搬送托盘上所施加的识别标记相同的识别标记。 | ||
搜索关键词: | 晶片 生成 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社迪思科,未经株式会社迪思科许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110387862.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:作为FGFR4抑制剂的稠环化合物
- 下一篇:高频放大器
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造