[发明专利]晶圆片及其制作方法在审
| 申请号： | 202110389796.4 | 申请日： | 2021-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN113161868A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 韩春霞;杨旭;刘哲;周璇;黄蓓 | 申请（专利权）人： | 武汉仟目激光有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/187 | 分类号： | H01S5/187;H01S5/20;H01S5/34 |
| 代理公司： | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人： | 张涛 |
| 地址： | 430205 湖北省武汉市东湖新技术开发区汤*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种晶圆片的制作方法，包括S1，在衬底上依次生长N型分布式布拉格反射镜层和P型分布式布拉格反射镜层；S2，在衬底背离N型分布式布拉格反射镜层的一侧生长应力平衡层；S3，在应力平衡层上再制作金属加厚层。还提供一种晶圆片，本体包括N型分布式布拉格反射镜层以及P型分布式布拉格反射镜层，本体靠近N型分布式布拉格反射镜层的一侧为N面，本体靠近P型分布式布拉格反射镜层的一侧为P面；于本体的N面生长应力平衡层，并于应力平衡层上制作金属加厚层。本发明可以减小应力而避免破片的风险，进而提升了器件的稳定性和可靠性，同时制作的金属加厚层一方面可以保护应力平衡层，另一方面可以使N面金属更加光滑平坦便于后续封装。 | ||
| 搜索关键词： | 晶圆片 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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